[发明专利]用于控制钻进过程的磁测距系统无效
| 申请号： | 201080049026.5 | 申请日： | 2010-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN102782250A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | J·哈伦德巴克;M·弗兰克 | 申请（专利权）人： | 韦尔泰克有限公司 |
| 主分类号： | E21B47/022 | 分类号： | E21B47/022;G01V3/26 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张亚非;杨晓光 |
| 地址： | 丹麦阿*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于控制井下钻进过程的测距系统（1），该测距系统具有纵向方向且包括：用于钻第一钻孔（3）的钻进工具（2），钻进工具具有工具轴（4）且包括电磁体形式的磁场源（5），该磁场源产生磁场（6）且具有基本上与工具轴平行的磁场源轴（7）。而且，测距系统包括布置在第二钻孔（9）中的感测工具（8），用于通过至少两个传感器单元（10）测量磁场，所述传感器单元被布置为沿着感测工具的轴彼此相距一距离（D）。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 钻进 过程 测距 系统 | ||
【主权项】：
一种用于控制井下钻进过程的测距系统（1），该测距系统具有纵向方向且包括：‑用于钻第一钻孔（3）的钻进工具（2），该钻进工具具有工具轴（4）且包括电磁体形式的磁场源（5），该磁场源（5）产生磁场（6）且具有基本上与工具轴平行的磁场源轴（7），以及‑布置在第二钻孔（9）中的感测工具（8），用于通过至少两个传感器单元（10）测量磁场，其中所述传感器单元被布置为沿着感测工具的轴彼此相距一距离（D）。
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