[发明专利]用于光学调制与微成型的可变形铁磁性流体层器件有效

专利信息
申请号: 201080050064.2 申请日: 2010-11-08
公开(公告)号: CN102597846A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: T·P·兰普雷克特;T·E·莫尔夫;J·R·韦斯 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G02B26/02 分类号: G02B26/02;G02B26/08;G02F1/01;G09F9/37;G02B3/00;B29D11/00;B29C33/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 酆迅;边海梅
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及器件(10、10a-10d),其包括:片上电路(110-160、170、180)的集合,此类电路中的每个电路被配置成在被激励时产生垂直于该集合的平面型表面的磁场(300);铁磁性流体层(40),其与平面型表面接合;以及逻辑电路(50),被配置成选择性激励(200、200a)该集合中的一个或多个电路,以在该被激励的电路处产生磁场和响应于该磁场的该铁磁性流体层的变形(41、44、45)、以及调制指向该铁磁性流体层的光束(IR1、IR2)。优选地,附加的液体层(60)在片上电路的对面与铁磁性流体层接合,该附加的液体层(60)与铁磁性流体层不可混溶。本发明可以应用于微显示/投影器件、可编程光学反射透镜,或者针对表面复制的微成型应用。
搜索关键词: 用于 光学 调制 成型 变形 铁磁性 流体 器件
【主权项】:
一种器件(10、10a‑10d),包括:片上电路(110‑160、170、180)的集合,所述电路中的每个电路被配置成在被激励时产生垂直于所述集合的平面型表面的磁场(300);铁磁性流体层(40),其与所述平面型表面接合;以及逻辑电路(50),被配置成选择性激励(200、200a)所述集合中的一个或多个电路,以便:在被激励的电路处产生磁场;响应于所述磁场,引起所述铁磁性流体层的变形(44、45);以及调制指向所述铁磁性流体层的光束(IR1、IR2)。
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