[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法无效
申请号: | 201080050464.3 | 申请日: | 2010-11-09 |
公开(公告)号: | CN102714042A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 羽根田和幸 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;B24B9/06;B24B37/02;B24B37/08;B24B37/24;B24B37/26;C03C19/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;杨光军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法,该方法能够以高的生产率制造表面的平滑性高、表面的起伏少的磁记录介质用玻璃基板。这样的制造方法,在一次磨削加工和二次磨削加工中使用由粘结剂固定了金刚石磨粒的金刚石垫(20A,20B),该金刚石垫(20A,20B)的磨削面(20a)具有排列设置有多个具有平坦的顶部的砖状的凸部(21)的结构,用于一次磨削加工的金刚石垫(20A),其金刚石磨粒的平均粒径为4~12μm,凸部(21)的金刚石磨粒的含量为5~70体积%,用于二次磨削加工的金刚石垫(20B),其金刚石磨粒的平均粒径为1~5μm,凸部(21)的金刚石磨粒的含量为5~80体积%。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法,是包括至少对玻璃基板的除了端面以外的表面实施一次磨削加工的工序和实施二次磨削加工的工序的磁记录介质用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在所述一次磨削加工和二次磨削加工中,使用由粘结剂固定了金刚石磨粒的金刚石垫,该金刚石垫的磨削面具有排列设置有多个具有平坦的顶部的砖状的凸部的结构,用于所述一次磨削加工的金刚石垫,所述金刚石磨粒的平均粒径为4~12μm,所述凸部的金刚石磨粒的含量为5~70体积%,用于所述二次磨削加工的金刚石垫,所述金刚石磨粒的平均粒径为1~5μm,所述凸部的金刚石磨粒的含量为5~80体积%。
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