[发明专利]处理空气和材料中的杂质的装置和方法有效
申请号: | 201080050790.4 | 申请日: | 2010-10-14 |
公开(公告)号: | CN102612377A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | K·本德克;P·C·卡蓬;D·阿方斯;K·麦肯尼;W·J·埃利斯 | 申请(专利权)人: | 普里麦尔拉有限责任公司 |
主分类号: | A61L9/22 | 分类号: | A61L9/22;A61L9/20;C01B13/10;B01J21/10;B01J23/72 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 任永利 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供处理或以其它方式改进在封闭空间内所含的气氛的组件和方法。所述封闭空间可为诸如供设备、食物和/或合适材料用的袋或其他外壳的容器。在暴露于所述材料的气氛内产生臭氧。所产生的臭氧与所述气氛混合。随后将所产生的臭氧的至少一部分从所述混合气氛中除去。所述组件和方法可用以处理被污染的运动设备等以及处理食物储存气氛,诸如暴露于新鲜水果和蔬菜的那些气氛。 | ||
搜索关键词: | 处理 空气 材料 中的 杂质 装置 方法 | ||
【主权项】:
用于对暴露于封闭空间内的材料的气氛进行消毒、去污、除臭、调节和干燥中的至少一项的方法,所述方法包括:使所述气氛循环通过气氛处理单元;在所述气氛处理单元内产生臭氧;在所述气氛处理单元中将所产生的臭氧与所述气氛混合;在所述气氛处理单元中使气氛和臭氧的所述混合物暴露于紫外光以除去在所述气氛中的至少一部分污染物;从气氛和臭氧的所述暴露于紫外光的混合物中除去所述臭氧的至少一部分以形成含有低于预选阈值量的臭氧量的臭氧耗尽的混合物;和将所述臭氧耗尽的混合物排放到所述封闭空间中。
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