[发明专利]光刻设备以及器件制造方法

摘要

在光刻设备中，使用场反射镜设置照射模式，场反射镜包括多个可移动琢面以引导辐射至光瞳琢面反射镜上的可选定位置。在一场琢面反射镜有缺陷且不能被设置到期望位置的情形中，可移动琢面反射镜中的另一个被设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解有缺陷的琢面反射镜的有害影响。

主权项

一种光刻设备，布置成将图案从图案形成装置投影到衬底上并且具有照射系统，所述照射系统配置成调节辐射束并将辐射束引导到图案形成装置上，其中照射系统包括：第一反射部件和第二反射部件，所述第一反射部件布置成将辐射束的辐射引导到第二反射部件上并且包括多个可移动反射元件，每个可移动反射元件能够至少在第一位置和第二位置之间移动以便改变照射模式，第二反射部件与照射系统的光瞳平面相关联；和控制系统，布置成将多个可移动反射元件设置到各自的期望位置以便实现期望的照射模式，并且进一步布置成在可移动反射元件中的第一个可移动反射元件有缺陷和不能被设置到相应的期望位置的情况下将可移动反射元件中的第二个可移动反射元件设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解可移动反射元件中的第一个可移动反射元件的有害影响。