[发明专利]包括气体输送系统的用于生化处理的离心设备

摘要

一种用于执行如下处理的设备(1)，该处理包括对容纳在至少一个试管(90)中的材料进行离心的步骤以及将气体供应到该试管(90)中的步骤。该设备包括离心装置、盖(20)和锁定装置(30)，该离心装置设有以可绕中心旋转轴(11)旋转的方式布置的转子(10)，此处，至少一个处理壳(12)被限定用于至少一个试管，其中，上述至少一个处理壳相对于该中心旋转轴(11)布置在转子(10)的外围位置处，该锁定装置用于将转子(10)锁定到盖(20)，所述锁定装置(30)包括细长部(31)，该细长部适于与所述转子(10)牢固接合。此外，该设备还配备有气体输送装置(2、3、4)，该气体输送装置包括适于将气流传送到该设备的腔中的通道(35)，并且还包括排出通道(37)，该排出通道适于将来自所述腔的废气从该腔传送出去。

主权项

一种用于生化处理的离心设备(1)，所述离心设备用于执行如下处理，所述处理包括对容纳在至少一个试管(90)中的材料进行离心的步骤；以及将气体供应到所述或每个试管(90)中的步骤，所述设备(1)包括：离心装置，该离心装置具有以可绕旋转轴(1)旋转的方式布置的转子(10)以及限定在所述转子(10)内的一个或多个处理壳(12)，所述壳适于容纳所述或每个试管(90)，其中，所述一个或多个处理壳(12)相对于所述中心旋转轴(11)布置在所述转子(10)的外围部；盖(20)，该盖与所述转子(10)一起限定所述壳(12)，使得所述盖(20)阻挡所述处理壳(12)内的所述或每个试管(90)；气体输送系统(2、3、4)，该气体输送系统包括穿过所述盖(20)限定的进入通道(35)，所述进入通道(35)适于将来自布置在所述盖(20)外部的源的所述气体的流传送到所述壳中，其特征在于，所述气体输送系统(2、3、4)还包括排出通道(37)，其中，所述排出通道(37)的一部分被限定为穿过所述盖(20)，其中，排出通道(37)的所述部分相对于所述旋转轴(11)布置在所述转子(10)的外围部；并且，所述排出通道(37)适于借助将所述气体通过所述传送装置(2、3、4)向所述试管中传送，从而将来自所述腔的废气传送到所述盖(20)的外部。