[发明专利]包含偏转镜的折反射投射物镜以及投射曝光方法

摘要

一种折反射投射物镜具有多个透镜以及至少一凹面镜(CM)，还有两个偏转镜(FM1,FM2)，从而将从物场到凹面镜的部分光束路径与从凹面镜到像场的部分光束路径分开。偏转镜相对于投射物镜的光轴(OA)绕着平行于第一方向(x方向)的倾斜轴倾斜。第一偏转镜设置成光学邻近于第一场平面，而第二偏转镜设置成光学邻近于第二场平面，第二场平面与第一场平面光学共轭。设置在所述场平面之间的光学成像系统，在第一方向具有接近于-1的成像比例。提供位移装置(DISX)，用于偏转镜(FM1、FM2)在第一位置和第二位置之间平行于第一方向的同步位移，第二位置相对于第一位置偏移了一位移距离。通过投射物镜的投射辐射束在偏转镜的第一位置于第一反射区反射，并且在偏转镜的第二位置于第二反射区反射，第二反射区相对于第一反射区平行第一方向横向偏移了此位移距离。偏转镜在第一反射区和第二反射区具有不同的反射特性局部分布。由此可主动操纵场效果(例如场均匀性)或主动操纵波前。

主权项

一种折反射投射物镜，用于将设置在所述投射物镜的物面（OS）的有效物场中的掩模的图案成像到设置在所述投射物镜的像面中的有效像场中，包含：多个透镜以及至少一个凹面镜（CM）；第一偏转镜（FM1），用于将来自所述物面（OS）的辐射偏转到所述凹面镜；以及第二偏转镜（FM2），用于将来自所述凹面镜的辐射偏转到所述像面（IS）的方向，其中：所述偏转镜相对于所述投射物镜的光轴（OA）绕着垂直于所述光轴且平行于第一方向的倾斜轴倾斜；所述第一偏转镜设置为光学邻近于第一场平面，所述第二偏转镜设置为光学邻近于第二场平面，所述第二场平面与所述第一场平面光学共轭；并且设置在所述第一场平面和所述第二场平面之间的光学成像系统在所述第一方向上具有成像比例βx，βx的范围为‑0.8>βx>‑1.2，其特征在于：位移装置（DISX），用于所述第一偏转镜（FM1）和所述第二偏转镜（FM2）在第一位置和第二位置之间平行于所述第一方向的同步位移，所述第二位置相对于所述第一位置偏移了一位移距离（DIS），其中在所述有效物场和所述有效像场之间行进的投射辐射束，在所述偏转镜的所述第一位置中在第一反射区中反射，并且在所述偏转镜的所述第二位置中在第二反射区中反射，所述第二反射区相对于所述第一反射区平行于所述第一方向横向偏移了所述位移距离（DIS），并且其中所述偏转镜在所述第一反射区和所述第二反射区中具有反射特性的不同局部分布。