[发明专利]光学成像写入系统有效
| 申请号： | 201080054347.4 | 申请日： | 2010-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN102687077A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | T·莱迪格 | 申请（专利权）人： | 派因布鲁克成像系统公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 酆迅;郑菊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭露一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。在一实施例中，该方法包含：提供一个具有复数个空间光调制器(SLM)成像单元的平行成像写入系统，其中该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收一个待写入基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出相邻SLM成像单元其相邻成像区之间的重叠区域；根据一组预设的成本函数，决定一个用以合并该重叠区域内相邻成像区的接合路径；以及控制该SLM成像单元，以利用该接合路径，将该分区光掩膜数据图案平行写入基板。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 写入 系统 | ||
【主权项】：
一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的方法，包含下列步骤：提供一个平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收一个待写入基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出相邻SLM成像单元其相邻成像区之间的重叠区域；根据一组预设的成本函数决定一个接合路径，藉以合并该重叠区域内的相邻成像区；及控制该SLM成像单元，以利用该接合路径将该分区光掩膜数据图案平行写入该基板。
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