[发明专利]掺杂氮的氧化镁内的电阻开关有效
申请号: | 201080055451.5 | 申请日: | 2010-09-21 |
公开(公告)号: | CN102668085A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | S.S.帕金;M.G.萨曼特;杨政翰;蒋信 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00;G11C13/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邸万奎 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 掺杂氮的氧化镁(MgO)绝缘层呈现电压控制的电阻状态,如,高电阻状态和低电阻状态。100nm级的图案化纳米装置显示高的可再现开关特性。通过增加氮浓度,可有系统地降低此类装置在两个电阻电平之间切换的电压电平。同样地,通过改变氮浓度,可改变高电阻状态的电阻,和通过改变氮浓度几个百分比,可减少高电阻状态的电阻若干数量级。另一方面,低电阻状态的电阻则几乎不受氮掺杂程度的影响。通过限制在SET(设定)过程期间通过的电流,可在广泛范围中改变单一Mg50O50-xNx层装置的电阻。因而可建构相关的数据存储装置。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 氧化镁 电阻 开关 | ||
【主权项】:
一种装置,包含:电阻开关组件阵列,所述电阻开关组件阵列的每个电阻开关组件与字线和位线电连通,所述电阻开关组件阵列中的每个电阻开关组件包括掺杂N的MgO层,其N含量是该层的至少0.1原子百分比。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080055451.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带放大镜的仪表指针
- 下一篇:传感器芯片
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的