[发明专利]光漫射粘合剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201080055749.6 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102648259A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 谢乔远;彼得·B·格拉赛尔 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C09J11/08 | 分类号： | C09J11/08;C09J7/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 张爽;郭国清 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备光漫射粘合剂的方法，所述方法包括：制备包含分散在光学透明的粘合剂基质中的第一粒子的第一粘合剂组合物；测定所述第一粘合剂组合物的第一雾度和第一透明度；和基于所述第一雾度和所述第一透明度，制备包含所述光学透明的粘合剂基质、分散在所述光学透明的粘合剂基质中的所述第一粒子和第二粒子的第二粘合剂组合物。本发明还公开了一种包含分散在光学透明的粘合剂基质中的第一粒子和第二粒子的光漫射粘合剂。所述第一粒子和第二粒子具有比所述光学透明的粘合剂基质高的折射率。本发明还公开了包含所述光漫射粘合剂的制品。 | ||
| 搜索关键词： | 漫射 粘合剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种制备光漫射粘合剂的方法，所述方法包括：a)制备第一粘合剂组合物，其包含分散在光学透明的粘合剂基质中的第一重量百分比的第一粒子，其中所述第一粒子具有与所述光学透明的粘合剂基质不同的折射率；b)测定所述第一粘合剂组合物的第一雾度和第一透明度；和c)基于所述第一雾度和所述第一透明度，制备第二粘合剂组合物，其包含所述光学透明的粘合剂基质、分散在所述光学透明的粘合剂基质中的第二重量百分比的所述第一粒子和第三重量百分比的第二粒子，其中所述第二粒子具有与所述光学透明的粘合剂基质不同的折射率，其中所述第二粘合剂组合物具有第二雾度和第二透明度，并且其中所述第二雾度在所述第一雾度的20%以内，和所述第二透明度不同于所述第一透明度。
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