[发明专利]知晓光学邻近校正的集成电路设计优化

摘要

实施了一种用于在布置和布线之后修改布局文件的EDA方法。该方法包括在用于电路的实施的设计库中存储用于单元的形状修改的库。形状修改的库包括形状修改的特定于工艺的校准的结果，该结果指示由对单元应用形状修改所引起的电路参数的调整。布局文件被分析以识别用于电路参数的调整的单元。为实现期望的调整而被校准的形状修改被从库中选出。形状修改被应用于在布局文件中所识别出的单元以产生修改后的布局文件。修改后的布局文件能被用于流片，并且接着被用于制造改进的集成电路。

主权项

一种用于修改指定包括多个单元的集成电路设计的布局文件的方法，所述布局文件指定所述单元的元件的形状、所述多个单元的布置、以及所述单元之间的互连，该方法包括：存储单元的元件的形状修改的库，该库包括指示由于对所述单元应用所述形状修改所引起的所述单元的电路参数的调整的数据；在所述布局文件中识别用于所述电路参数的调整的单元；从形状修改的库中为所识别的单元选择形状修改；以及使用所选择的形状修改对所述布局文件中所识别的单元应用所述形状修改以产生修改后的布局文件。