[发明专利]包括能原位缩合的化合物和遮挡UV辐射的试剂的化妆处理方法有效

专利信息
申请号: 201080057748.5 申请日: 2010-12-15
公开(公告)号: CN103260596A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: H.萨迈因;G.卡辛;D.坎道;A.罗多特;F.拉洛雷特 申请(专利权)人: 莱雅公司
主分类号: A61K8/35 分类号: A61K8/35;A61K8/41;A61K8/58;A61Q1/02;A61Q1/08;A61Q17/04;A61Q19/04;A61Q19/08;A61K8/33;A61K8/49;A61K8/67;A61K8/86;A61Q19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 段家荣;林森
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 包括能原位缩合的化合物和遮挡UV辐射的试剂的化妆处理方法。本发明涉及皮肤的化妆处理的方法,其包括将以下施加至皮肤:一种化合物或一组化合物A,其能够原位缩合并且显示出至少一种反应性官能团FA,其在缩合后是游离的;和遮挡UV辐射的遮蔽剂C,其包括能通过与官能团FA反应形成共价键或物理(离子,氢)键的反应性官能团FC。
搜索关键词: 包括 原位 缩合 化合物 遮挡 uv 辐射 试剂 化妆 处理 方法
【主权项】:
皮肤的化妆处理的方法,其包括向皮肤施加:‑一种化合物或一组化合物A,其能够原位缩合并且显示出至少一种反应性官能团FA,其在缩合后是游离的;和‑遮挡UV辐射的遮蔽剂C,其包括能通过与官能团FA反应形成共价键或物理键的反应性官能团FC。
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