[发明专利]含氟聚合材料及含氟聚合物图案化结构的制备方法有效
| 申请号： | 201080058456.3 | 申请日： | 2010-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102667626A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | C·奥伯;G·马里渃斯;J·李;H·H·方 | 申请（专利权）人： | 康奈尔大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人： | 戈晓美;张一军 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于获得包含含氟聚合材料的图案化结构的方法及组合物。所述含氟聚合材料具有足够含量的氟以使所述材料可通过常规光刻/图案转移方法而被图案化且保持理想的机械及物理性质。该图案化结构可用于，例如，发光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合 材料 聚合物 图案 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种获得包含含氟聚合材料的图案化结构的方法，包括步骤：a).用含氟聚合材料层对基质进行涂覆；b).用光致抗蚀剂材料层对步骤a)中的基质进行涂覆；c).将部分步骤b)中的所述光致抗蚀剂材料层选择性地曝光于辐射下以形成经曝光的光致抗蚀剂材料的第一图案及未曝光的光致抗蚀剂材料的第二图案；d).选择性移除所述经曝光的光致抗蚀剂材料的第一图案或未曝光的光致抗蚀剂材料的第二图案以在所述光致抗蚀剂层中形成残留图案；以及e).将步骤d)中的所述光致抗蚀剂层残留图案转移至所述含氟聚合材料层，从而形成包含含氟聚合材料的图案化结构。
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