[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201080058540.5 | 申请日: | 2010-12-14 |
公开(公告)号: | CN102687264A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 田丸雅规;中西和幸;西村英敏 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L21/3205;H01L21/822;H01L21/8238;H01L23/52;H01L27/04;H01L27/092 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种半导体装置,在单元列(A1)的N型阱区域(NW)中设置阱电位供给区域(14n)。以同一间距配置在阱电位供给区域(14n)的横向两侧配置的相邻栅极(15a、15b)、进一步在两侧配置的相邻栅极(15c、15d)。此外,相邻单元列(A2)具有在纵向上分别与相邻栅极(15a~15d)对置的4根栅极(15e~15h)。即,阱电位供给区域(14n)周边的栅极图案维持形状规则性。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,在第1方向上排列配置了多个单元列,在每个单元列中,在所述第1方向延伸的多个栅极被排列配置在与所述第1方向正交的第2方向上,所述多个单元列分别具备在所述栅极的下方形成且分别在所述第2方向上延伸的第1导电型阱区域及第2导电型阱区域,作为所述多个单元列之一的第1单元列具备:第1阱电位供给区域,是在所述第1导电型阱区域中注入导电型与所述第1导电型阱区域相同的杂质而形成的;第1及第2相邻栅极,其分别配置在所述第1阱电位供给区域的所述第2方向上的两侧;第3相邻栅极,在所述第1阱电位供给区域的相反侧相邻地配置了该第3相邻栅极;和第4相邻栅极,在所述第1阱电位供给区域的相反侧相邻地配置了该第4相邻栅极,在所述第2方向上以同一间距配置所述第1~第4相邻栅极,并且,所述多个单元列之中的、在所述第1方向上与所述第1单元列相邻的第1相邻单元列具有4根栅极,该4根栅极在所述第1方向上分别与所述第1~第4相邻栅极对置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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