[发明专利]在衬底表面特别是光学元件上的锥形纳米结构、其制造方法及其用途有效
| 申请号： | 201080059070.4 | 申请日： | 2010-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN102781815A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | C·莫尔哈德;C·帕霍尔斯基;J·P·施帕茨 | 申请（专利权）人： | 马克思-普朗克科学促进协会 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李振东;过晓东 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种衬底表面，特别是光学元件上的锥形纳米结构、其制造方法及其特别是在光学装置、太阳能电池和传感器中的应用。依据本发明的锥形纳米结构特别适用于提供光反射非常小的衬底表面。依据本发明用于在衬底表面上制造锥形纳米结构的方法至少包括的步骤有：a)提供用纳米颗粒覆盖的衬底表面；b)蚀刻用纳米颗粒覆盖的衬底表面深度至少100nm，其中，纳米颗粒发挥蚀刻掩膜的作用并这样调节蚀刻参数，使纳米颗粒的下面形成双曲结构；c)通过施加机械力在在最小直径的区域内断开双曲结构，其中，衬底表面上保留的结构具有锥形的形状，其基本上相当于单层双曲结构的一半。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 表面 特别是 光学 元件 锥形 纳米 结构 制造 方法 及其 用途 | ||
【主权项】：
用于在衬底表面上制造锥形纳米结构的方法，包括a)提供用纳米颗粒覆盖的衬底表面；b)对用纳米颗粒覆盖的衬底表面以至少100nm的深度进行蚀刻，其中纳米颗粒发挥蚀刻掩膜的作用，并调节蚀刻参数以在纳米颗粒下方形成双曲结构；c)通过施加机械力在最小直径的区域内断开双曲结构，其中留在衬底表面上的结构具有锥形的形状，其基本上对应于单层双曲结构的一半。
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