[发明专利]MEMS制造中的多材料辅助金属化方案

摘要

本申请提供了制造MEMS的处理，利用了被集成到最终MEMS结构的主金属以及两种或更多种牺牲性辅助金属，辅助金属在机加工期间给主金属构件提供结构支撑。第一辅助金属被薄薄地镀在主金属周围和衬底的整个表面上方而不使用光刻。第二辅助金属然后被厚厚地镀在所沉积的第一辅助金属上方而不使用光刻。另外，还公开了使第一辅助金属在主金属特征之间的沉积速率增大的技术，其防止空洞化并从而增强机加工期间主金属的结构支撑。

主权项

1.一种用于制造多层微电机系统的方法，包括：a)提供由衬底支撑的主金属结构；b)在所述主金属结构周围并且在所述衬底的整个表面上方以薄层沉积第一牺牲性辅助金属；c)在所述第一牺牲性辅助金属周围并且在所述衬底的整个表面上方以厚层沉积第二牺牲性辅助金属；d)对所述主金属、所述第一牺牲性辅助金属和所述第二牺牲性辅助金属进行机加工；e)重复步骤a)-d)，直到制造成所需的多层结构；以及f)从经过机加工的所述主金属结构蚀刻掉所述第一牺牲性辅助金属和所述第二牺牲性辅助金属，以形成多层微电机系统，其中，所沉积的第二牺牲性辅助金属比所述第一牺牲性辅助金属密度低，使得这些金属的组合不造成所述衬底翘曲。