[发明专利]真空排气装置、真空排气方法及基板处理装置有效
| 申请号： | 201080059663.0 | 申请日： | 2010-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102713287A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 井上俊哉;桥本建治;山本昌弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | F04B37/16 | 分类号： | F04B37/16;F04C25/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 黄永杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在进行维持现有的真空状态的运转（待机运转）时，通过一个真空泵（12a）进行其他真空泵（12）的最终段的容积室的排气，维持其他真空泵（12）的最终段的真空，使待机运转时的其他真空泵（12）的动力仅为机械损耗，不用辅助泵等地大幅抑制真空泵（12）的耗电量。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 排气装置 排气 方法 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种真空排气装置，其特征在于，所述真空排气装置具备：多个真空泵，其相对于处理室并列连接，并使所述处理室成为规定的真空状态；排气集合管，其连通所述真空泵的排气侧；辅助配管，其对至少一个所述真空泵的进气侧和所述排气集合管进行连接；和切换单元，其将所述至少一个所述真空泵的进气侧的流路切换到所述处理室侧或所述辅助配管侧。
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