[发明专利]等离子体发生装置和等离子体发生装置的用途有效

专利信息
申请号: 201080060506.1 申请日: 2010-11-03
公开(公告)号: CN102714912A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 德克兰·安德鲁·迪韦尔;休·波茨 申请(专利权)人: 格拉斯哥大学大学行政评议会
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李丙林;刘书芝
地址: 英国格*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种等离子体发生装置,包括第一功率电极和位于该第一电极前面的第二电极结构。绝缘层置于第一电极和第二电极结构之间。第二电极结构具有多个第二电极部分,限定其间的缺口部分。缺口部分的宽度是w。第二电极部分各自具有前表面并且缺口部分各自具有前表面,每一个第二电极部分前表面与相邻缺口部分前表面之间的高度差为h,并且其中h为至多1mm以及比例w/h为至少1。因此,第二电极部分的前表面和缺口部分的前表面一起提供平滑表面。由该装置产生的等离子体(在空气或其他包含氧气的气体中)形成臭氧,其可以用于处理例如,食品。平滑的表面允许基本上所有的等离子体产生在包装内,该包装的壁按压在第二电极结构上。
搜索关键词: 等离子体 发生 装置 用途
【主权项】:
一种等离子体发生装置,包括:第一电极;位于所述第一电极前面的第二电极结构;置于所述第一电极和所述第二电极结构之间的绝缘层,其中所述第二电极结构具有多个第二电极部分,限定其间的缺口部分,所述缺口部分的宽度为w,所述第二电极部分各自具有前表面并且所述缺口部分各自具有前表面,每个第二电极部分的所述前表面与所述相邻缺口部分的前表面之间的高度差为h,并且其中h为至多1mm以及w/h的比例为至少1。
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