[发明专利]用于涂覆基底的设备和方法有效
| 申请号： | 201080060514.6 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102695564A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | K·阿西卡拉 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | B05B1/04 | 分类号： | B05B1/04;B05B13/02;B05B15/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于在基底（3）的表面（4）上由一种或多种液态前体产生液体膜以形成涂层的设备（1）和方法，所述设备布置成在涂覆室（21）中将浮质流（13）引到基底（3）的表面（4）。根据本发明，所述设备包括均化喷嘴（17），用于使浮质流（13）在进入到涂覆室（21）之前沿着基底（3）的表面（4）的方向基本均化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基底 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在基底（3）的表面（4）上生产由一种或多种液态前体所形成的液体膜（27）以形成涂层的设备，所述设备布置成在涂覆室（21）中将浮质流引到所述基底（3）的所述表面（4），其特征在于，所述设备包括均化喷嘴（17），用于使浮质流（13）在进入所述涂覆室（21）之前基本沿着所述基底（3）的所述表面（4）的方向均化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于BENEQ有限公司，未经BENEQ有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080060514.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：水煤气变换反应方法
- 下一篇：用于高湿度环境的过滤介质
