[发明专利]优化的电介质反射式衍射光栅无效
| 申请号： | 201080062353.4 | 申请日： | 2010-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN102812388A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 尼古拉斯·博诺;让-保尔·尚巴雷 | 申请（专利权）人： | 巴黎综合理工学院;国家科学研究中心 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于获得用于光束衍射的反射式衍射光栅的方法，该反射式衍射光栅包括至少四个平坦介电材料层的叠层，蚀刻上介电材料层以形成衍射光栅，上介电材料层的衍射周期是预先确定的，该方法实施以下步骤：选择包括被蚀刻层的介电材料层的数量和特性；在改变至少四个介电材料层的厚度和光栅的至少一个蚀刻参数的同时，针对属于用于每个预定衍射光栅结构的光谱范围的频率采样数字地计算至少一个衍射级中的反射效率和/或透射效率；以及基于决定于光栅的给定用途的标准从计算的结构中选择至少一个结构。 | ||
| 搜索关键词： | 优化 电介质 反射 衍射 光栅 | ||
【主权项】：
一种用于获取具有预定光谱范围、入射角和极化的光束的衍射的反射式衍射光栅的方法，所述反射式衍射光栅包括至少四个平坦的介电材料层的叠层，蚀刻上介电材料层以形成衍射光栅，所述上介电材料层的蚀刻周期是预定的，其特征在于，所述方法实施以下步骤：选择包括被蚀刻层的介电材料层的数量和特性；在利用预定间隔和预定增量间距改变至少四个所述介电材料层的厚度和光栅的至少一个蚀刻参数的同时，针对属于每个预定衍射光栅结构使用的光谱范围的频率采样数字地计算至少一个衍射级的反射效率和/或透射效率；以及基于决定于光栅的给定用途的标准从计算结构中选择至少一个结构。
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