[发明专利]粒子射线治疗装置有效
| 申请号： | 201080062466.4 | 申请日： | 2010-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102740929A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 本田 泰三;原田 久;蒲 越虎;山本 雄一;岩田 高明 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 李玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于获得可降低扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线治疗装置。其包括：照射管理装置（32），该照射管理装置（32）基于带电粒子束（1ｂ）的目标照射位置坐标（Ｐｉ）来控制扫描电磁铁（3）；及位置监视器（7），该位置监视器（7）测定带电粒子束（1ｂ）的测定位置坐标（Ｐｓ），照射管理装置（32）包括指令值生成器（25），该指令值生成器（25）基于校正数据（Ｉａ）和目标照射位置坐标（Ｐｉ）来将控制输入（Ｉｏ（Ｉｒ））输出到扫描电磁铁（3），上述校正数据（Ｉａ）是基于测定位置坐标（Ｐｓ）及目标照射位置坐标（Ｐｉ）而生成的，上述测定位置坐标（Ｐｓ）是扫描电磁铁的励磁图案与正式照射的计划相同的预备照射中，由位置监视器（7）测定的。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 治疗 装置 | ||
【主权项】：
一种粒子射线治疗装置，对照射对象照射由加速器进行加速且由扫描电磁铁进行扫描的带电粒子束，其特征在于，包括：照射管理装置，该照射管理装置基于所述带电粒子束的目标照射位置坐标来控制所述扫描电磁铁；以及位置监视器，该位置监视器测定所述带电粒子束的测定位置坐标，所述照射管理装置包括指令值生成器，该指令值生成器基于校正数据和所述目标照射位置坐标来将控制输入输出到所述扫描电磁铁，所述校正数据是基于所述测定位置坐标及所述目标照射位置坐标而生成的，所述测定位置坐标是在所述扫描电磁铁的励磁图案与正式照射的计划相同的预备照射中、由所述位置监视器测定的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社，未经三菱电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080062466.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
