[发明专利]通过离子蚀刻使表面结构化的方法、结构化表面和用途

摘要

本发明涉及表面结构化方法，即通过用任选地中和的离子束的离子蚀刻在材料，特别地玻璃(1)表面上形成至少一组图案或不规则性(2)，该图案或不规则性具有亚微米高度H和至少一个亚微米或者微米的被称为宽度的横向特征维度W，特征在于该方法包括以下步骤：提供所述具有至少等于100nm的厚度的材料，该材料是固体混合材料并包含单一的或者一种或多种元素混合的氧化物，在材料中的氧化物摩尔百分比为至少40%，尤其为40-94%；和至少一种具有与一种或多种氧化物的元素不同性质的物质，其尤其为金属，其中在该材料中的所述一种或多种物质的摩尔百分比为6%直至50%，并且低于所述氧化物的百分比，同时所述物质的至少大部分具有小于50nm的最大特征维度，尤其所述混合材料在蚀刻之前是亚稳定的，在蚀刻之前任选地加热所述混合材料，使用低于一小时的蚀刻时间在大于1cm2的蚀刻表面上使所述混合材料的表面结构化，直至形成所述图案的组，该结构化步骤任选地包括加热混合材料。

主权项

表面结构化方法，即通过使用任选地中性化的离子束的离子蚀刻在材料(1)，特别地玻璃的表面上形成至少一组不规则性或图案(2，4)，该不规则性或图案具有亚微米高度H和至少一个亚微米或者微米的被称为宽度的横向特征维度W，特征在于该方法包括以下步骤：‑ 提供所述具有至少等于100nm的厚度的材料，该材料是固体混合材料并包含：‑ 单一的氧化物或者一种或多种元素的混合氧化物，在材料中的氧化物摩尔百分比为至少40%，尤其为40‑94%；‑ 至少一种与一种或多种氧化物的元素不同性质的物质，其尤其为金属，其中在该材料中的所述一种或多种物质的摩尔百分比为从6%直至50%，并且低于所述氧化物的百分比，同时所述物质的至少大部分具有小于50nm的最大特征维度，尤其所述混合材料在所述蚀刻之前是亚稳定的，‑ 在所述蚀刻之前任选地加热所述混合材料，‑ 使用低于一小时的蚀刻时间在大于1cm2的蚀刻表面上使所述混合材料的表面结构化，直至形成所述图案组，该结构化任选地伴随有混合材料的加热。