[发明专利]镀铬方法有效
申请号: | 201080064469.1 | 申请日: | 2010-12-24 |
公开(公告)号: | CN102782192A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 村上透;前田亮;川拜美;努鲁艾迪拉;莫哈德穆鲁希德 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
主分类号: | C25D3/04 | 分类号: | C25D3/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种镀铬方法,在酸性的铬电镀浴中浸渍被镀敷物,使用至少在表面具有含氧化铱的膜的阳极作为阳极进行电解,其中,所述酸性的铬电镀浴以3价铬和6价铬的合计铬浓度为60~140g/L、6价铬浓度为5~40g/L、并且6价铬浓度的比例为合计铬浓度的5~35质量%的比例包含3价铬化合物和6价铬化合物,且包含50~400g/L的有机羧酸根离子,铅离子浓度为2mg/L以下。根据本发明的方法,可长期稳定地得到良好的铬镀膜,镀浴的管理也非常容易。 | ||
搜索关键词: | 镀铬 方法 | ||
【主权项】:
一种镀铬方法,其特征在于,在酸性的铬电镀浴中浸渍被镀敷物,使用至少在表面具有含氧化铱的膜的阳极作为阳极进行电解,其中,所述酸性的铬电镀浴以3价铬和6价铬的合计铬浓度为60~140g/L、6价铬浓度为5~40g/L、且6价铬浓度的比例为合计铬浓度的5~35质量%的比例包含3价铬化合物和6价铬化合物,且包含50~400g/L的有机羧酸根离子,铅离子浓度为2mg/L以下。
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