[发明专利]用于真空热处理设备的热处理容器有效
申请号: | 201080064803.3 | 申请日: | 2010-12-24 |
公开(公告)号: | CN102781562A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 金柄淑;金民成;蔡京勳 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | B01J3/03 | 分类号: | B01J3/03;F27D7/06;F27B5/05;C01B31/36 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 许向彤;林锦辉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种用于真空热处理设备的热处理容器。所述热处理容器包括:底部和侧壁。在所述侧壁的上部中限定排放通道。 | ||
搜索关键词: | 用于 真空 热处理 设备 容器 | ||
【主权项】:
一种用于真空热处理设备的热处理容器,所述热处理容器包括:底部;以及侧壁,其中,在所述侧壁中限定排放通道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG伊诺特有限公司,未经LG伊诺特有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080064803.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。