[发明专利]用于薄晶片的可移动静电载具有效
申请号: | 201080064953.4 | 申请日: | 2010-12-30 |
公开(公告)号: | CN102782827A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | M·M·穆斯利赫;D·X·王 | 申请(专利权)人: | 速力斯公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/683 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 冯剑明 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明在一个实施例中提供了一种载具,该载具包括具有由前侧沟槽划分的隔离的正电极区域和隔离的负电极区域的顶部半导体层,该前侧沟槽贯穿顶部半导体层至少至位于顶部半导体层和底部半导体层之间的基底绝缘层。一介质层覆盖载具的顶部的暴露表面。贯穿底部半导体层至少至绝缘层的背侧沟槽形成与前侧正电极区域和负电极区域对应的隔离的背侧区域。位于底部半导体层上且耦接至正电极区域和负电极区域的背侧触点允许了前侧电极区域的充电。 | ||
搜索关键词: | 用于 晶片 移动 静电 | ||
【主权项】:
一种用于薄晶片处理的双极可移动静电载具,包括:顶部晶体半导体层,具有隔离的正电极区域和隔离的负电极区域;前侧沟槽,贯穿所述顶部晶体半导体层至少至基底的绝缘层,所述前侧沟槽将所述负电极区域和所述正电极区域分隔;所述绝缘层放置在所述顶部晶体半导体层和底部晶体半导体层之间;介质层,覆盖所述顶部晶体半导体层的暴露的表面区以及被所述前侧沟槽暴露的所述绝缘层的表面区;所述底部晶体半导体层具有贯穿所述底部晶体半导体层至少至所述绝缘层的背侧沟槽,所述背侧沟槽在所述底部晶体半导体层的底表面上形成与所述顶部晶体半导体层上的所述负电极区域和所述正电极区域对准的隔离的背侧区域;以及背侧触点,位于所述隔离的背侧区域上,所述背侧触点耦接至所述正电极区域和所述负电极区域,所述背侧触点用于为所述正电极区域和所述负电极区域充电。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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