[发明专利]太阳能电池及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201080065423.1 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN102804394A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 大濑直之;竹中研介 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张鑫
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了具有良好电池特性的太阳能电池、以及该太阳能电池的制造方法。具体地,公开了包括至少一层光电转换元件的太阳能电池的制造方法,在这些层中由微晶硅膜构成的i型硅层设置在n型硅层和p型硅层之间,并且基板侧n型硅层或p型硅层由非晶硅膜构成。在该方法中,通过将含硅烷气体和氢气的混合气体引入腔室的等离子体CVD法来形成光电转换元件,并且在基板侧n型硅层或p型硅层与i型硅层之间形成由微晶硅膜构成的籽晶层。籽晶层在与基板侧n型硅层或p型硅层接触的部分中具有比i型硅层低的结晶率,并且继续至结晶率朝着i型硅层阶段性地或逐渐地增大的i型硅层。
搜索关键词: 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具有至少一层或多层光电转换元件的太阳能电池,在所述层中由微晶硅膜构成的i型硅层设置在n型硅层和p型硅层之间,所述太阳能电池的特征在于,所述光电转换元件使得置于基板侧的所述n型硅层或p型硅层由非晶硅膜构成,以及由微晶硅膜构成的籽晶层设置在置于所述基板侧的所述n型硅层或p型硅层与所述i型硅层之间,其中与置于所述基板侧的所述n型硅层或p型硅层接触的部分的结晶率低于所述i型硅层的结晶率,并且所述结晶率朝着所述i型硅层侧、继续至所述i型硅层连续地或分两个或更多个阶段逐渐地增大。
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