[发明专利]太阳能电池及其制造方法无效
申请号: | 201080065423.1 | 申请日: | 2010-09-08 |
公开(公告)号: | CN102804394A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 大濑直之;竹中研介 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了具有良好电池特性的太阳能电池、以及该太阳能电池的制造方法。具体地,公开了包括至少一层光电转换元件的太阳能电池的制造方法,在这些层中由微晶硅膜构成的i型硅层设置在n型硅层和p型硅层之间,并且基板侧n型硅层或p型硅层由非晶硅膜构成。在该方法中,通过将含硅烷气体和氢气的混合气体引入腔室的等离子体CVD法来形成光电转换元件,并且在基板侧n型硅层或p型硅层与i型硅层之间形成由微晶硅膜构成的籽晶层。籽晶层在与基板侧n型硅层或p型硅层接触的部分中具有比i型硅层低的结晶率,并且继续至结晶率朝着i型硅层阶段性地或逐渐地增大的i型硅层。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有至少一层或多层光电转换元件的太阳能电池,在所述层中由微晶硅膜构成的i型硅层设置在n型硅层和p型硅层之间,所述太阳能电池的特征在于,所述光电转换元件使得置于基板侧的所述n型硅层或p型硅层由非晶硅膜构成,以及由微晶硅膜构成的籽晶层设置在置于所述基板侧的所述n型硅层或p型硅层与所述i型硅层之间,其中与置于所述基板侧的所述n型硅层或p型硅层接触的部分的结晶率低于所述i型硅层的结晶率,并且所述结晶率朝着所述i型硅层侧、继续至所述i型硅层连续地或分两个或更多个阶段逐渐地增大。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的