[发明专利]电子材料用Cu-Ni-Si系合金无效

专利信息
申请号: 201080066045.9 申请日: 2010-04-02
公开(公告)号: CN102822364A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 大久保光浩 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: C22C9/06 分类号: C22C9/06;C22C9/00;C22C9/01;C22C9/02;C22C9/04;C22C9/05;C22C9/10;C22F1/08;C22F1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孔青;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 通过控制Ni-Si化合物颗粒的分布状态,来谋求提高Corson系合金的特性。电子材料用铜合金,该铜合金含有Ni:0.4~6.0质量%、Si:0.1~1.4质量%,且剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成,且该铜合金中存在粒径为0.01μm以上且不足0.3μm的Ni-Si化合物小颗粒和粒径为0.3μm以上且不足1.5μm的Ni-Si化合物大颗粒,上述小颗粒的个数密度为1~2000个/μm2,上述大颗粒的个数密度为0.05~2个/μm2。
搜索关键词: 电子 材料 cu ni si 合金
【主权项】:
电子材料用铜合金,该铜合金含有Ni:0.4~6.0质量%、Si:0.1~1.4质量%,且剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成,且该铜合金中存在粒径为0.01μm以上且不足0.3μm的Ni‑Si化合物小颗粒和粒径为0.3μm以上且不足1.5μm的Ni‑Si化合物大颗粒,上述小颗粒的个数密度为1~2000个/μm2,上述大颗粒的个数密度为0.05~2个/μm2。
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