[发明专利]处理装置、处理方法以及处理程序有效
| 申请号： | 201080067171.6 | 申请日： | 2010-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN102918796A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 水卷正严 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | H04L9/16 | 分类号： | H04L9/16;H04L9/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 舒艳君;李伟 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种处理装置、处理方法以及处理程序。处理装置（3）在预先设定的密钥时刻执行与处理对象信息相关的规定处理，具备：判断部（301），其在按每个规定时间设定的检验定时，判断进行了前次处理的密钥时刻和当前时刻之间即检验期间是否包含密钥时刻；处理部（302），其在判断部（301）判断为检验期间包含密钥时刻的情况下，执行应在该密钥时刻执行的规定处理。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 以及 程序 | ||
【主权项】：
一种处理装置，在预先设定的密钥时刻执行与处理对象信息有关的规定处理，其特征在于，具备：判断部，其在按每个规定时间设定的检验定时，判断在进行了前次处理的密钥时刻和当前时刻之间即检验期间是否包含该密钥时刻；和处理部，其在该判断部判断为该检验期间包含该密钥时刻的情况下，执行应在该密钥时刻执行的该规定处理。
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