[发明专利]用于制造液晶显示装置用阵列基板的方法有效
| 申请号： | 201080068296.0 | 申请日： | 2010-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN103026293A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 李石;崔容硕;尹暎晋;李友兰 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;C09K13/08 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 张颖玲;徐川 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置用阵列基板的方法，其中，使用一种蚀刻剂组合物，该蚀刻剂组合物按组合物的总重量计包含：a)5～25wt％的过氧化氢(H2O2)；b)0.1～5wt％的硫酸；c)0.01～1.0wt％的含氟化合物；d)0.1～5wt％的唑化合物；e)0.1～5wt％的咪唑化合物；以及f)其余为水。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 液晶 显示装置 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种制造液晶显示装置用阵列基板的方法，所述方法包括：1)使用蚀刻剂组合物蚀刻配置在基板上的铜基金属层，因此形成栅极；2)形成使所述栅极绝缘的栅绝缘层；3)在所述栅绝缘层上形成半导体层；4)形成使所述半导体层绝缘的绝缘层；5)在使所述半导体层绝缘的绝缘层上形成铜基金属层，而且使用所述蚀刻剂组合物蚀刻该铜基金属层，因此形成源极/漏极；以及6)形成电连接到所述漏极的像素电极，其中，1)和5)的所述蚀刻剂组合物按组合物的总重量计包含：a)5～25wt％的过氧化氢(H2O2)；b)0.1～5wt％的硫酸；c)0.01～1.0wt％的含氟化合物；d)0.1～5wt％的唑化合物；e)0.1～5wt％的咪唑化合物；以及f)其余为水。
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