[发明专利]用于制造液晶显示装置用阵列基板的方法

摘要

本发明涉及一种用于制造液晶显示装置用阵列基板的方法，所述方法使用蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物按组合物总重量计包含：a)5～25wt％的过氧化氢(H2O2)；b)0.1～5wt％的有机酸；c)0.1～5wt％的磷酸盐化合物；d)0.1～5wt％的水溶性环胺化合物；e)0.1～5wt％的每个分子具有氮原子与羧基的水溶性化合物；f)0.01～1.0wt％的含氟化合物；g)0.001～5wt％的多元醇表面活性剂；以及h)其余为水。

主权项

一种制造液晶显示装置用阵列基板的方法，所述方法包括：1)使用蚀刻剂组合物蚀刻配置在基板上的铜基金属层，因此形成栅极；2)形成使所述栅极绝缘的栅绝缘层；3)在所述栅绝缘层上形成半导体层；4)形成使所述半导体层绝缘的绝缘层；5)在使所述半导体层绝缘的绝缘层上形成铜基金属层，而且使用所述蚀刻剂组合物蚀刻该铜基金属层，因此形成源极/漏极；以及6)形成电连接到所述漏极的像素电极，其中，1)和5)中的蚀刻剂组合物按组合物的总重量计包含：a)5～25wt％的过氧化氢(H2O2)；b)0.1～5wt％的有机酸；c)0.1～5wt％的磷酸盐化合物；d)0.1～5wt％的水溶性环胺化合物；e)0.1～5wt％的每个分子具有氮原子与羧基的水溶性化合物；f)0.01～1.0wt％的含氟化合物；g)0.001～5wt％的多元醇表面活性剂；以及h)其余为水。