[发明专利]微光刻投射曝光设备的光学系统以及降低图像位置误差的方法有效
| 申请号： | 201080069309.6 | 申请日： | 2010-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103154818A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | J.罗弗;J.T.纽曼;J.齐默尔曼;D.赫尔维格;D.于尔根斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种降低微光刻投射曝光设备中的图像位置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供掩模(16)、光敏层(22)及微光刻投射曝光设备(10)，该微光刻投射曝光设备使用投射光将掩模(16)中所含特征(19)成像于光敏表面(22)上。在下一个步骤中，利用仿真或度量确定与光敏表面(22)上所形成的特征的像关联的图像位置误差。然后，将投射光的输入偏振状态变更为椭圆输出偏振状态，其被选择为致使图像位置误差降低。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 光学系统 以及 降低 图像 位置 误差 方法 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备(10)的光学系统(12；20)，包含：a)偏振调整装置(58)，其能够将输入偏振状态变更为不同的椭圆输出偏振状态；及b)控制单元(66)，其控制所述偏振调整装置(58)，其中所述控制单元(66)被构造为：‑接收关于图像位置误差的数据，该图像位置误差发生在光敏表面(22)处，掩模(16)中所包含的特征(19)被成像在该光敏表面上；及‑选择由所述偏振调整装置(58)产生的椭圆输出偏振状态，致使所述图像位置误差降低。
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