[发明专利]使用石墨烯对比度增强层的光刻有效
| 申请号： | 201080069331.0 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN103124927A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·A·叶戈;赛思·阿德里安·米勒 | 申请（专利权）人： | 英派尔科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一般地描述了包括通过光刻形成的图案的方法、系统和结构的技术。在一些示例方法中，将光致抗蚀剂层涂覆到衬底上，并且可以将石墨烯层涂覆到光致抗蚀剂层上。可以通过掩模向石墨烯层施加光，其中掩模包括图案。光可以在石墨烯层上形成图案，使得该图案形成在光致抗蚀剂层上。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 石墨 对比度 增强 光刻 | ||
【主权项】：
一种形成结构的方法，所述方法包括：在衬底上涂覆光致抗蚀剂层；在光致抗蚀剂层上涂覆石墨烯层；通过掩模向石墨烯层施加光，其中掩模包括图案，并且施加光的操作通过石墨烯层在光致抗蚀剂层上形成所述图案。
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