[发明专利]光波导的形成有效
| 申请号： | 201080069982.X | 申请日： | 2010-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN103189768A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 基思·戈森 | 申请（专利权）人： | 英派尔科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一般地描述了针对光波导、用于形成光波导的方法和系统、以及包括光波导的光学系统的技术。在一些示例中，光波导可以包括硅衬底的壁中的氮氧化硅区域。氮氧化硅区域可以限定光波导的内部区域。壁可以限定过孔。光波导可以包括衬底中的氧化硅区域。氧化硅区域可以限定与内部区域相邻的光波导的外部区域。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 形成 | ||
【主权项】：
一种在硅衬底中形成的光波导，所述光波导包括：硅衬底的壁中的氮氧化硅区域，其中所述氮氧化硅区域限定光波导的内部区域，并且其中所述壁限定过孔；以及衬底中的氧化硅区域，其中所述氧化硅区域限定与所述内部区域相邻的光波导的外部区域。
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