[其他]用于将射频功率耦合到等离子体腔室的装置有效

专利信息
申请号: 201090001211.2 申请日: 2010-09-28
公开(公告)号: CN202888133U 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 白宗薰;朴范洙;S·H·金 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/205 分类号: H01L21/205;H01L21/3065
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆嘉
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型揭示了一种用于将射频功率耦合到等离子体腔室的装置。一种射频阻抗匹配网络(33)的电接地(36),电接地(36)连接到等离子体腔室的接地腔室罩(18)上的连接区域(50)。连接区域从腔室罩的中心向工件通道(20)偏移。或者,射频电源(30)具有电接地输出(32),电接地输出(32)连接到腔室罩上具有这种偏移的连接区域(52)。或者,射频传输线路(37)具有连接于射频电源的接地输出与腔室罩上具有这种偏移的连接区域(52)之间的电接地导线(39)。
搜索关键词: 用于 射频 功率 耦合 等离子 体腔 装置
【主权项】:
一种用于将射频功率耦合到等离子体腔室的装置,包括: 电接地腔室壁,所述电接地腔室壁环绕等离子体腔室内部,其中所述电接地腔室壁包含腔室罩及腔室侧壁; 工件通道,所述工件通道位于所述腔室侧壁中; 喷头,所述喷头导电并包含多个气体通道;以及 射频阻抗匹配网络,所述射频阻抗匹配网络包括:(1)用于接收射频功率的输入、(2)电连接到所述喷头的输出,及(iii)电连接到所述腔室罩上的一个或多个连接区域的电接地; 其中所述腔室罩上的所述一个或多个连接区域包含在所述腔室罩上从所述腔室罩的中心向所述工件通道偏移的第一连接区域。
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