[发明专利]光掩模数据的产生方法、光掩模的制作方法、具有微透镜阵列的固态图像传感器及微透镜阵列的制造方法

摘要

本发明涉及光掩模数据的产生方法、光掩模的制作方法、具有微透镜阵列的固态图像传感器及微透镜阵列的制造方法。提供一种产生用于制作微透镜阵列的光掩模数据的方法，该光掩模在包含周边区域和主区域的各矩形区域中具有包含遮光部分和非遮光部分的微透镜图案，该周边区域具有矩形区域的四个边作为外边缘，该主区域具有作为周边区域的内边缘的边界，该周边区域由分别包含所述四个边中的一个作为其一部分的四个条带区域构成，并且，所述外边缘和所述内边缘之间的宽度不大于曝光用光的波长的1/2，该方法包括确定周边区域中的遮光部分和非遮光部分的布局，使得遮光部分的密度被设为落在0％～15％的范围内。

主权项

一种产生光掩模数据的方法，所述光掩膜数据用于制作光掩模，所述光掩膜用于通过光刻法制造微透镜阵列，所述光掩模在多个二维布置的矩形区域中的每一个中具有包含用于形成微透镜的遮光部分和非遮光部分的微透镜图案，各矩形区域包含周边区域和主区域，所述周边区域具有所述矩形区域的四个边作为外边缘，所述主区域具有作为所述周边区域的内边缘的边界，所述周边区域由四个条带区域构成，所述四个条带区域中的每一个包含所述四个边中的一个作为条带区域的轮廓的一部分，并且，周边区域的外边缘和内边缘之间的宽度不大于在光刻法中使用的曝光用光的波长的1/2，所述方法包括：第一步骤，确定主区域中的遮光部分和非遮光部分的布局；以及第二步骤，确定周边区域中的遮光部分和非遮光部分的布局，使得由(遮光部分的面积)/((遮光部分的面积)+(非遮光部分的面积))定义的遮光部分的密度被设为落在大于等于0％且小于等于15％的范围内。