[发明专利]微波凝视成像关联方法有效
| 申请号： | 201110000698.3 | 申请日： | 2011-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN102141617A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 王东进;马远鹏;陆广华;尹治平;何学智;孟青泉;刘畅畅 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01S13/89 | 分类号： | G01S13/89;G01S13/90 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 230026*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微波凝视成像关联方法，包括以下步骤：通过随机辐射场对目标区域物体进行照射，在物体面上形成辐射场分布；通过多通道或单通道进行散射场接收，并对目标区域物体的成像物理过程进行电磁场分析，以得到物体面对应的整个成像区域范围内的时空两维辐射场函数；依据所述时空两维辐射场函数统计时空两维随机辐射场的相关特性；以及根据所述统计特性，对散射场和随机辐射场进行关联处理以反演得到目标区域物体的成像。本发明能够联合散射场和时空两维随机辐射场实现高分辨的目标成像。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 凝视 成像 关联 方法 | ||
【主权项】：
一种微波凝视成像关联方法，其特征在于，所述关联方法包括以下步骤：通过随机辐射场对目标区域物体进行照射，在物体面上形成辐射场分布；通过多通道或单通道进行散射场接收，并对目标区域物体的成像物理过程进行电磁场分析，以得到物体面对应的整个成像区域范围内的时空两维辐射场函数；依据所述时空两维辐射场函数统计时空两维随机辐射场的相关特性；以及根据所述统计特性，对散射场和随机辐射场进行关联处理以反演得到目标区域物体的成像。
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