[发明专利]高光谱图像的全约束最小二乘线性光谱混合分析方法

摘要

本发明提供了一种高光谱图像的全约束最小二乘线性光谱混合分析方法。包括混合比例的初次分析、端元筛选、混合比例的二次分析；输入待分析混合像元p；输入d个类别的d个端元之阵列为依此按照如下步骤进行分析：1)混合比例的初次分析；2)端元筛选；3)混合比例的二次。本发明提供了一种新的单端元模式下的FCLS-LSMA分析方法，具有速度快、分析效果理论最优的优点。

主权项

一种高光谱图像的全约束最小二乘线性光谱混合分析方法，包括混合比例的初次分析、端元筛选、混合比例的二次分析；输入待分析混合像元p；输入d个类别的d个端元之阵列为E＝[e1，e2，·，ed]；其特征是按照如下步骤进行分析：1)的混合比例的初次分析：第i(i＝1，2，·，d)个混合比例fi(p)为fi(p)＝+bi，其中，截距bi为(ETV，1)‑1中第i列的最后一个元素，斜率wi为Vα中第i列的列向量；其中，V＝[e1‑e2，e2‑e3，·，ed‑1‑ed]，“1”为一个元素值全为1的d维列向量，α为(ETV，1)‑1中第i列去掉最后一个元素的列向量；2)端元筛选：依次检查混合比例fj(p)，j＝1，2，·，d，若fj(p)小于0时，则去掉原始端元阵列中的第j个端元；3)混合比例的二次：利用2)中选出的端元，采用1)中的方法进行混合比例的二次求解，获得最终混合比例 f · j ( p ) , j = 1,2 , · , d .