[发明专利]发光装置、混光装置及发光装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110002391.7 申请日: 2011-01-07
公开(公告)号: CN102588816B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 谢明勋;王健源;李宗宪;王志铭;许明祺;巫汉敏 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/50 分类号: H01L33/50;F21S8/00;F21V5/00;F21V8/00;F21V9/10;C03C17/34
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 彭久云
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种发光装置、混光装置及发光装置的制造方法。该发光装置包括载板、设置于此载板上的发光元件、包覆此发光元件并设置于此载板上的第一导光层、包覆此第一导光层及此发光元件并设置于此载板上的波长转换暨导光层,以及设置于此第一导光层与此波长转换暨导光层间的低折射率层。其中,此第一导光层具有渐变折射率,此波长转换暨导光层具有圆顶型的形状并用以转换此发光元件所发出光线的波长及传递光线,以及此低折射率层用以反射来自此波长转换暨导光层的光线。
搜索关键词: 发光 装置 制造 方法
【主权项】:
一种发光装置,包括:载板;发光元件,设置于该载板之上;第一导光层,包含第一折射率并具有多个材料层并包覆该发光元件;波长转换层,具有第二折射率,包覆该第一导光层及该发光元件;第二导光层,包含第三折射率,包覆该发光元件,该第三折射率大于该第二折射率;低折射率层,具有第四折射率,设置于该第一导光层与该波长转换层之间,该第四折射率小于该第一折射率以及该第二折射率;以及第三导光层,包含第五折射率,包覆该波长转换层,该第五折射率小于该第二折射率;其中该第二导光层设置在该低折射率层与该波长转换层之间。
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