[发明专利]微机电系统结构有效
申请号: | 201110002502.4 | 申请日: | 2011-01-07 |
公开(公告)号: | CN102452635A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 李建兴;谢聪敏;操礼齐;刘志成 | 申请(专利权)人: | 鑫创科技股份有限公司 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;H04R19/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种微机电系统结构,其包含衬底、结构状的电介质层以及振动膜的MEMS结构。结构状的电介质层安置于衬底的上方。振动膜由结构状的电介质层固持于周边端部处。振动膜包含位于周边区域处且围绕振动膜的中心区域的多个沟槽/脊环。皱状结构位于振动膜的中心区域处,由沟槽/凹痕环所围绕。本发明能够有效吸收残余应力,且该振动膜能提高对于空气压力的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 微机 系统 结构 | ||
【主权项】:
一种微机电系统(MEMS)结构,其包括:衬底,其具有前侧和后侧,其中所述衬底具有预先确定的区域,其中位于所述预先确定的区域处的所述衬底的所述后侧形成有凹穴或未形成有凹穴;结构状的电介质层,其安置于所述衬底的所述前侧的上方;振动膜,其由所述结构状的电介质层固持于周边端部处,其中所述振动膜位于对应于所述预先确定的区域的所述衬底的上方且在所述衬底与所述振动膜之间形成室,所述室由位于所述衬底中或位于所述衬底的所述前侧上的结构层中或位于所述衬底和所述结构层二者中的多个通孔连接到外部空间,其中所述振动膜包括:多个沟槽/脊环,其位于周边区域处且围绕所述振动膜的中心区域;以及皱状结构,其位于所述振动膜的所述中心区域处,由所述沟槽/脊环所围绕。
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