[发明专利]一种均相阴离子交换膜的制造方法有效
| 申请号： | 201110004257.0 | 申请日： | 2011-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN102068919A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 葛道才 | 申请（专利权）人： | 北京廷润膜技术开发有限公司 |
| 主分类号： | B01D71/28 | 分类号： | B01D71/28;B01D71/82;B01D67/00;C08J5/22 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 郭佩兰 |
| 地址： | 101103*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种均相阴离子交换膜的制造方法，它包括以下步骤：用聚乙烯和乙烯与辛烯共聚物弹性体二元共混的合金膜或聚乙烯和乙烯与辛烯共聚物弹性体和聚异丁烯橡胶三元共混的合金膜做基底膜；将基底膜浸在苯乙烯，二乙烯苯和过氧化苯甲酰的溶液中，将含浸膜加压，加热聚合得基膜；将基膜在含无水四氯化锡的氯甲醚溶液中氯甲基化得氯甲基膜，接着将氯甲基膜在三甲胺水溶液中季铵化，得阴离子交换膜。本发明的优点是可使含浸温度大大降低，且苯乙烯和二乙烯苯溶液可以重复利用，制得的阴离子交换膜容量高，可高达2.2毫克当量/克干膜，面电阻约6Ωcm2。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均相 阴离子 交换 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种均相阴离子交换膜的制造方法，其特征在于：它包括以下步骤：（1）、用聚乙烯和乙烯与辛烯共聚物弹性体二元共混的合金膜或聚乙烯和乙烯与辛烯共聚物弹性体和聚异丁烯橡胶三元共混的合金膜做基底膜；(2)、将基底膜浸在苯乙烯，二乙烯苯和过氧化苯甲酰的溶液中，将含浸膜加压，加热聚合得基膜；（3）、将基膜在含无水四氯化锡的氯甲醚溶液中氯甲基化得氯甲基膜，接着将氯甲基膜在三甲胺水溶液中季铵化，得阴离子交换膜。
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