[发明专利]Nd:YGG晶体1111nm激光器及在一氧化碳中毒检测中的应用有效

专利信息
申请号: 201110006592.4 申请日: 2011-01-13
公开(公告)号: CN102142653A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 于浩海;武奎;郝良振;王正平;张怀金;王继扬 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01S3/081 分类号: H01S3/081;H01S3/16;H01S3/092;H01S3/106;H01S3/109;G01N21/39
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 李宝成
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及Nd:YGG晶体1111nm激光器及在一氧化碳中毒检测中的应用。包括泵浦源、谐振腔、Nd:YGG激光晶体及特定介质膜,可实现1111nm激光输出。在此激光器的基础上,将沿1111nm倍频方向切割的倍频晶体放入1111nm激光光路上实现555nm附近激光输出,用作一氧化碳中毒的检测光源。本发明的激光器具有结构紧凑、操作简单、成本低、有利于产业化生产等特点。
搜索关键词: nd ygg 晶体 1111 nm 激光器 一氧化碳中毒 检测 中的 应用
【主权项】:
一种Nd:YGG晶体的1111nm激光器,包括泵浦源、Nd:YGG激光晶体、谐振腔;其特征在于,谐振腔是由入射镜和出射镜组成,入射镜镀以对泵浦光和1.06微米高透过且对1111nm高反射的介质膜,出射镜镀以对1.06微米高透过且对1111nm部分反射的介质膜,此时Nd:YGG晶体的两个通光面光学抛光并镀有1.06微米和1111nm高透过的介质膜;或者,谐振腔由Nd:YGG激光晶体两个镀膜的通光面组成,Nd:YGG的入射面光学抛光并镀以对1.06微米高透过且对1111nm高反射的介质膜,出射面镀以对1.06微米高透过且对1111nm部分反射的介质膜。
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