[发明专利]均光抗眩结构及发光装置有效
| 申请号： | 201110007327.8 | 申请日： | 2011-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN102588895A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 林昭颖;张仁怀 | 申请（专利权）人： | 宏腾光电股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V14/00 | 分类号： | F21V14/00;F21V14/04;F21V14/06;F21V9/14;F21V7/22;F21V29/02;F21S2/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种均光抗眩结构及发光装置，该均光抗眩结构包括：一反射式偏光单元与一偏光位置调整单元。反射式偏光单元至少包括一由多层高分子光学薄膜相互堆叠所组成的多层膜反射片，上述多层高分子光学薄膜中至少有一层为双折射材料层，其符合NX≠NY≠NZ的条件，其中NX为光在X方向的折射率，NY为光在Y方向的折射率，NZ为光在Z方向的折射率。偏光位置调整单元连接于反射式偏光单元，以用于调整反射式偏光单元的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 均光抗眩 结构 发光 装置 | ||
【主权项】：
一种均光抗眩结构，其特征在于，包括：一反射式偏光单元，所述反射式偏光单元至少包括一由多层高分子光学薄膜相互堆叠所组成的多层膜反射片，所述多层高分子光学薄膜中至少有一层为双折射材料层，所述双折射材料层符合NX≠NY≠NZ的条件，其中NX为光在X方向的折射率，NY为光在Y方向的折射率，NZ为光在Z方向的折射率；以及一偏光位置调整单元，所述偏光位置调整单元连接于所述反射式偏光单元，以用于调整所述反射式偏光单元的位置。
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