[发明专利]一种苎麻研磨基布有效
| 申请号： | 201110007731.5 | 申请日： | 2011-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN102587002A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 李兴高;李世鹏 | 申请（专利权）人： | 湖南明星麻业股份有限公司 |
| 主分类号： | D03D15/02 | 分类号： | D03D15/02;D02G3/04;D02G3/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 413100 *** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及研磨抛光设备，具体涉及一种用于对各种电子设备进行研磨抛光的苎麻研磨基布。解决了现有技术织物纤维伸长率大，在研磨过程中加拉力后会不断的伸长，织物纤维强力低不耐磨，织物纤维磨擦系数小，用了一段时间后表面发光。磨擦系数降低，无法使用，使用寿命短。当两种绝缘体研磨时会产生静电等技术缺陷，提供一种以质量百分含量计，包括苎麻纤维80-99％，导体纤维1-20％的苎麻研磨基布，本发明产品结构简单，摩擦系数高，不易断裂变形，不易产生静电，具有良好的耐久性和稳定的物理与化学性能可达到工业化生产要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 苎麻 研磨 | ||
【主权项】：
一种苎麻研磨基布，其特征在于：以质量百分含量计，包括苎麻纤维80‑99％，导体纤维1‑20％。
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