[发明专利]半色调掩模、用于制造它的方法及使用它的平板显示器有效
申请号: | 201110008187.6 | 申请日: | 2005-11-08 |
公开(公告)号: | CN102073211A | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 朴相昱;姜甲锡;李勤植;朴宰佑;沈惟敬 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G03F1/14 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王萍;许向华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 具有透明基板、半透光层和光屏蔽层的半色调掩模,用于制造它的方法,以及使用它的平板显示器。该半色调掩模被应用到多个光刻工艺循环中,由此缩短用以制造掩模所占用的时间和减少掩模生产成本。由于所需图案根据氧化铬(CrxOy)膜的均匀性即在溅射中的均匀性、经过本发明的半色调掩模的半透光层来均匀地形成,所以半色调掩模在尺寸上不受限制。 | ||
搜索关键词: | 色调 用于 制造 方法 使用 平板 显示器 | ||
【主权项】:
一种半色调掩模,包括:透明基板;光屏蔽层,形成在透明基板上,具有完全透射指定波长范围内照射光的透光部分和完全屏蔽指定波长范围内照射光的光屏蔽部分;以及半透光部分,部分透射指定波长范围内的照射光,并由选自于包括CrxOy、CrxCoy、CrxCoyNz和SixNy的组中的一个制成,其中x、y和z是自然数并指示相应化学元素的数量。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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