[发明专利]旋流电解技术处理净化铜电解液工艺无效
| 申请号： | 201110009919.3 | 申请日： | 2011-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN102453931A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 邓涛;陈国梁;王文龙 | 申请（专利权）人： | 嘉兴科菲冶金科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25C7/06 | 分类号： | C25C7/06;C25C1/12 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所 33213 | 代理人： | 吴秉中;余培养 |
| 地址： | 314006 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 旋流电解技术处理净化铜电解液工艺，它涉及铜电解液净化技术领域。它的处理工艺为：1、将需要净化处理的铜电解液经精密过滤；2、进入旋流电解系统生产标准阴极铜；3、经过三段旋流电解后，溶液中的含铜2-4g/L时，溶液进入旋流电解粉体脱杂阶段；4、粉体旋流电解槽脱除砷、锑、铋等杂质达到净化要求；5、经压滤后，滤饼形成少量的并且含铜较低的黑铜渣，滤液进入下一工序。它替代传统的净化处理铜电解废液的诱导脱铜脱杂方法，提供一种高效、可靠、工艺流程简单、操作简便、成本低廉的净化铜电解废液的电解技术方案。 | ||
| 搜索关键词： | 流电 技术 处理 净化 电解液 工艺 | ||
【主权项】：
旋流电解技术处理净化铜电解液工艺，其特征在于它的处理工艺为：1、将需要净化处理的铜电解液经精密过滤；2、进入旋流电解系统生产标准阴极铜；3、经过三段旋流电解后，溶液中的含铜2～4g/L时，溶液进入旋流电解粉体脱杂阶段；4、粉体旋流电解槽脱除砷、锑、铋等杂质达到净化要求；5、经压滤后，滤饼形成少量的并且含铜较低的黑铜渣，滤液进入下一工序。
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