[发明专利]气体处理系统

摘要

如转盘式反应器(10)的有机金属化学汽相沉积(MOCVD)反应器具有气体喷射器头部，该喷射器头部具有布置在相邻的气体进口之间的扩散器(129)。所述扩散器在下游方向上成锥形。所述喷射器头部理想地具有用于如烷基金属的第一气体的、径向成排布置的进口(117)，该进口从反应壁向内径向地终止以使反应壁上的反应物的沉积最少。喷射器头部还理想地具有用于如氨气的第二气体的、布置在成排的第一气体进口之间的区域中的进口(125)，并且另外具有用于第二气体的、与旋转轴线同轴的中心进口(135)。

主权项

一种处理一个或多个基片的方法，包括：(a)关于轴线旋转承载该基片的盘状保持器，同时保持该基片的表面实质上垂直于该轴线并且面向沿该轴线的上游方向；和，在该旋转步骤期间，(b)将第一气体在平行于该轴线的下游方向上朝着该基片排放为第一组气流，该第一组气流从该轴线延伸至第一径向距离，并且同时将第二气体在下游方向上排放为第二组气流，该第二组气流从该轴线延伸至大于第一径向距离的第二径向距离。