[发明专利]传导冷却超导磁体装置有效
申请号: | 201110022402.8 | 申请日: | 2011-01-11 |
公开(公告)号: | CN102262952A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 井上达也;横山彰一 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01F6/04 | 分类号: | H01F6/04;H01F6/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 马淑香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种传导冷却超导磁体装置。超导线圈(10)被收容在真空容器(120)内。辐射屏蔽体(110)在真空容器(120)内与真空容器(120)隔开规定间隔地配置,并围住超导线圈(10)的周围。制冷机(130)通过传导来冷却超导线圈(10)和辐射屏蔽体(110)。配设构件的至少一部分被夹在真空容器(120)与辐射屏蔽体(110)之间,将热从真空容器(120)向辐射屏蔽体(110)传导。冷却配管(160)的两端部被向真空容器(120)外拉出、中间部与超导线圈(10)、辐射屏蔽体(110)和配设构件接触。通过将配设构件的热量排放到流入冷却配管(160)的冷却材料(170)中,从而能使传导至辐射屏蔽体(110)的热量减少。 | ||
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【主权项】:
一种传导冷却超导磁体装置,其特征在于,包括:真空容器;超导线圈,该超导线圈被收容在所述真空容器内;辐射屏蔽体,该辐射屏蔽体在所述真空容器内与所述真空容器隔开规定间隔地配置,并围住所述超导线圈的周围;制冷机,该制冷机通过传导来冷却所述超导线圈和所述辐射屏蔽体;配设构件,该配设构件的至少一部分被夹在所述真空容器与所述辐射屏蔽体之间,将热从所述真空容器向所述辐射屏蔽体传导;以及冷却配管,该冷却配管的两端部被向所述真空容器外拉出、中间部与所述超导线圈、所述辐射屏蔽体以及所述配设构件接触,通过将所述配设构件的热排放到流入所述冷却配管的冷却材料中,从而使传导至所述辐射屏蔽体的热减少。
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