[发明专利]位置测量装置有效
| 申请号： | 201110022525.1 | 申请日： | 2011-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN102297657A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 小池尚己 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G03G15/08 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;段斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种位置测量装置。该位置测量装置包括多个凹陷标记、光源部分、光接收部分和凹陷部测量部分。各个凹陷标记形成在作为待测量对象的物体的外壁上。多个凹陷标记中的每一个包括设置在以预定的凹陷标记中心位置作为圆心的同心圆上的多个凹陷部。在各个凹陷标记中，各个凹陷部设置为使得凹陷部的密度随着距凹陷标记中心位置的距离的变长而变小。光源部分以照射光照射物体。光接收部分接收来自物体的反射光，该反射光来源于该照射光。凹陷部测量部分测量各个凹陷标记的三维位置。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种位置测量装置，包括：多个凹陷标记，其形成在作为测量对象的物体的外壁上，所述多个凹陷标记中的每一个包括设置在以预定的凹陷标记中心位置作为圆心的同心圆上的多个凹陷部，在所述各个凹陷标记中，所述各个凹陷部设置为使得所述凹陷部的密度随着距所述凹陷标记中心位置的距离的变长而变小；光源部分，其以照射光照射所述物体；光接收部分，其接收来自所述物体的反射光，所述反射光来源于所述照射光；以及凹陷部测量部分，其基于由所述光接收部分接收到的所述反射光的密集度分布来测量所述各个凹陷标记的三维位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社，未经富士施乐株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110022525.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：锂电池自动烘烤夹具装置
- 下一篇：可调整主轴中心距、中心高三轴的钢轨钻床
