[发明专利]处理结构件、定影装置和具有定影装置的图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201110022537.4 申请日: 2011-01-18
公开(公告)号: CN102135749A 公开(公告)日: 2011-07-27
发明(设计)人: 大西雄三 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G15/20 分类号: G03G15/20;G03G21/16;G03G15/00
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 李雪春;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供处理结构件、定影装置和具有定影装置的图像形成装置。所述处理结构件包括:处理框体,支承执行规定的处理的处理部;固定机构,固定所述处理框体的位置,并且具有用于解除对所述处理框体进行的固定的操作部;盖,安装在所述处理框体上,能够在覆盖所述操作部的第一位置与使所述操作部露出成为能够看到的状态的第二位置之间转动;以及握持部,以能够转动的方式安装在所述处理框体上,与所述盖一体地转动。由此,可以抑制使用者进行不必要的操作。
搜索关键词: 处理 结构件 定影 装置 具有 图像 形成
【主权项】:
一种处理结构件,其特征在于包括:处理部,执行规定的处理;处理框体,支承所述处理部;固定机构,固定所述处理框体的位置,并且具有用于解除对所述处理框体进行的固定的操作部;盖,安装在所述处理框体上,能够在覆盖所述操作部的第一位置与使所述操作部露出成为能够看到的状态的第二位置之间转动;以及握持部,以能够转动的方式安装在所述处理框体上,与所述盖一体地转动。
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