[发明专利]降低寄生晶体管导通的功率组件及其制作方法有效
申请号: | 201110022645.1 | 申请日: | 2011-01-18 |
公开(公告)号: | CN102544005A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 林伟捷 | 申请(专利权)人: | 大中积体电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L29/78;H01L21/74;H01L21/336 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种低寄生晶体管导通的功率组件,包含沟渠式晶体管和一设置在沟渠式晶体管的一源极的一侧的重掺杂区,重掺杂区的导电型态和源极相异,另外,一接触插塞接触并且电连结重掺杂区,一源极导线覆盖沟渠晶体管的源极以及前述的接触插塞,使得源极和重掺杂区形成等电位。 | ||
搜索关键词: | 降低 寄生 晶体管 功率 组件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种低寄生晶体管导通的功率组件,其特征在于,包含:一基材包含一基底、一第一半导体层和一第二半导体层依次覆盖于所述基底上,所述基材划分为一有源区域和一外围区域;一沟渠式晶体管位于所述基材的所述有源区域中,所述沟渠式晶体管包含:一第一凹入式栅极结构埋入于所述第二半导体层并且延伸至所述第一半导体层;以及一源极位于所述第一凹入式栅极结构的二侧,其中所述第一半导体层作为所述沟渠式晶体管的一漏极;一第一重掺杂区位于所述有源区域中的所述第二半导体层,并且在所述源极的一侧,其中所述第一重掺杂区的导电型态和所述第二半导体层相同;一第一接触插塞位于所述第二半导体层中,且所述接触插塞的底部接触所述第一重掺杂区;以及一源极导线接触所述有源区域上的所述源极和所述第一接触插塞的顶部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大中积体电路股份有限公司,未经大中积体电路股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110022645.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:混合电压式输入/输出缓冲器
- 下一篇:可降解含氯有机废溶剂的处理剂系统
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的